《MSE Research Seminar》段辉高 教授：纳米干膜光刻胶与离散式光刻工艺

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• 题目: 纳米干膜光刻胶与离散式光刻工艺
• 主讲人：段辉高 教授 @ 湖南大学 机械与运载工程学院
• 时间：2026年4月24日 9:40-11:00
• 地点：工学院北楼 N537 会议室

主讲人简介

段辉高，2004年及2010年获兰州大学物理学学士和博士学位，曾先后在中科院电工所、美国麻省理工学院、新加坡科技研究局材料工程研究院、德国斯图加特大学及马普固体所、英国南安普顿大学等机构从事科研工作，2012年加入湖南大学。曾获全国百优、国家优青、国家杰青等人才项目支持，在 Nature Nanotechnology、Nature Energy、Light: Science & Applications 等国内外期刊上发表论文310余篇，H因子为81，现担任《极端制造（英文）》，Research、《光学精密工程》等5本期刊编委或副主编。段辉高在电子束光刻极限分辨率机理、离子束增减材协同制造工艺、大幅面高分辨完美接触式光刻技术等方面做出了系列创新工作，为微纳光学及平面光学等器件提供了超精密微纳制造解决方案。

讲座简介

光刻技术研发中，实现分辨率、吞吐量和成本之间的最佳权衡是重中之重。其中，接触式光刻，在理论上拥有光学衍射极限的分辨率且拥有极低成本优势，但因难以实现共形接触、对缺陷极度敏感及硬接触带来的掩模版损伤等难题，无法用于规模化生产。本报告中，我们将分享一种利用纳米干膜光刻胶实现完美共形接触式光刻的解决方案，该技术拥有近衍射极限分辨率、大面积均匀性、近零掩模版损伤等优势，使得接触式光刻在工业界大规模应用成为了可能。特别地，该解决方案可实现纳米干膜光刻胶及其图案的提前集中预制，使得甩胶及光刻步骤与衬底完全解耦，从而形成了离散式光刻工艺的新范式。

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